[实用新型]镀膜设备有效
| 申请号： | 201821169901.3 | 申请日： | 2018-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN209162185U | 公开（公告）日： | 2019-07-26 |
| 发明（设计）人： | 陈立国 | 申请（专利权）人： | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 邢惠童 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了一种镀膜设备，属于镀膜技术领域。所述镀膜设备包括：控制单元、镀膜腔体、对应一个镀膜腔体的至少两个卷绕装置，其中：至少两个卷绕装置分别完成基底的卷绕；控制单元控制至少两个卷绕装置交替进入一个镀膜腔体，以对基底进行镀膜。本申请解决了镀膜腔体在大气环境中的暴露时间长，且镀膜腔体进行抽真空所需的时间较长的问题，减少了镀膜腔体进行抽真空所需的时长，提高了镀膜的效率，本申请用于镀膜设备。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜腔体 镀膜设备 卷绕装置 抽真空 镀膜 基底 申请 大气环境 镀膜技术 卷绕 时长 暴露 | ||
【主权项】：
1.一种镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备包括：控制单元、镀膜腔体、对应一个镀膜腔体的至少两个卷绕装置，其中：所述至少两个卷绕装置分别完成基底的卷绕；所述控制单元控制所述至少两个卷绕装置交替进入所述一个镀膜腔体，以对所述基底进行镀膜。
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