[实用新型]一种真空蒸镀源有效
申请号: | 201821175508.5 | 申请日: | 2018-07-24 |
公开(公告)号: | CN208917283U | 公开(公告)日: | 2019-05-31 |
发明(设计)人: | 景东 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/12 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 马永芬 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种真空蒸镀源,涉及真空蒸镀设备技术领域,其中一种真空蒸镀源包括:蒸镀腔体,其内部设置有用于放置待蒸镀基板的基板支架;坩埚,设置于所述蒸镀腔体内部,用于加热蒸镀材料使其升华或者形成蒸镀蒸汽;密封过渡装置,设置于所述坩埚的开口处;所述密封过渡装置设置有开合状态可控的隔离门;当所述隔离门打开时,所述坩埚内的蒸镀蒸汽可通过所述密封过渡装置进入蒸镀腔体;当所述隔离门关闭时,所述蒸镀腔体与所述坩埚隔离。通过本实用新型,可以将蒸镀腔体与坩埚隔离,实现仅对蒸镀腔体破真空而不影响坩埚内的蒸镀材料,或者仅对坩埚破真空而不影响蒸镀腔体内已制备的OELD的性能,从而能够减少快速破真空的成本。 | ||
搜索关键词: | 坩埚 蒸镀腔体 过渡装置 真空蒸镀 破真空 密封 本实用新型 隔离门 蒸镀腔 蒸镀 蒸汽 加热蒸镀材料 真空蒸镀设备 隔离 隔离门打开 基板支架 开合状态 内部设置 蒸镀材料 蒸镀基板 开口处 可控的 体内部 制备 体内 升华 | ||
【主权项】:
1.一种真空蒸镀源,其特征在于,包括:蒸镀腔体,其内部设置有用于放置待蒸镀基板的基板支架;坩埚,设置于所述蒸镀腔体内部,用于加热蒸镀材料使其升华或者形成蒸镀蒸汽;密封过渡装置,设置于所述坩埚的开口处;所述密封过渡装置设置有开合状态可控的隔离门;当所述隔离门打开时,所述坩埚内的蒸镀蒸汽可通过所述密封过渡装置进入蒸镀腔体;当所述隔离门关闭时,所述蒸镀腔体与所述坩埚隔离。
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