[实用新型]一种固定研钵的装置有效

专利信息
申请号: 201821200046.8 申请日: 2018-07-27
公开(公告)号: CN208642938U 公开(公告)日: 2019-03-26
发明(设计)人: 郝敬虹;王璐;范双喜;刘超杰;肖爽;韩莹琰;秦晓晓 申请(专利权)人: 北京农学院
主分类号: B02C23/00 分类号: B02C23/00
代理公司: 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 11003 代理人: 张永革
地址: 102206 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种固定研钵的装置,包括底座,所述底座的顶面设置有研钵座,所述研钵座与研钵底部接触面之间设置有增加研钵底部与底座摩擦力的摩擦垫。本实用新型固定研钵的装置通过在研钵的底部设置底座,并在底座与研钵底部之间增加摩擦垫,提高了研钵底部与底座的摩擦力;使得研磨时,研钵在不用其他方式固定的情况下不会发生位移,保证正常研磨。
搜索关键词: 研钵 底座 本实用新型 研磨 摩擦垫 固定的 顶面 保证
【主权项】:
1.一种固定研钵的装置,其特征在于,包括底座,所述底座的顶面设置有研钵座,所述研钵座与研钵底部接触面之间设置有增加研钵底部与底座摩擦力的摩擦垫。
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