[实用新型]成膜用基板以及旋转成膜装置有效
| 申请号： | 201821213152.X | 申请日： | 2018-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN208649451U | 公开（公告）日： | 2019-03-26 |
| 发明（设计）人： | 北原道隆 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/34 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 邓宗庆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种成膜用基板以及旋转成膜装置。在所述成膜用基板的成膜面侧的表面与掩模贴合的状态下，使所述成膜用基板与掩模一起绕与所述成膜用基板的所述成膜面侧的表面垂直的旋转轴旋转，从而在所述成膜用基板上形成膜，所述成膜用基板的特征在于，所述成膜用基板的所述成膜面侧的一部分表面为粗糙面部。根据该实用新型，能够利用粗糙面部提高成膜用基板与掩模之间的摩擦阻力，从而可以抑制在旋转成膜时成膜用基板与掩模之间的相对滑动。 | ||
| 搜索关键词： | 成膜 基板 掩模 成膜面 成膜装置 粗糙面部 本实用新型 表面垂直 摩擦阻力 相对滑动 旋转轴 贴合 | ||
【主权项】：
1.一种成膜用基板，在所述成膜用基板的成膜面侧的表面与掩模贴合的状态下，使所述成膜用基板与掩模一起绕与所述成膜用基板的所述成膜面侧的表面垂直的旋转轴旋转，从而在所述成膜用基板上形成膜，所述成膜用基板的特征在于，所述成膜用基板的所述成膜面侧的一部分表面为粗糙面部。
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