[实用新型]一种物理气相沉积设备

摘要

本实用新型公开了一种物理气相沉积设备，包括气相沉积箱和蒸镀器，气相沉积箱上部的两侧对应竖直安装有两组驱动电机，两组驱动电机的输出轴末端对应连接两根丝杆的顶端，两根丝杆的外部对应通过两根连接杆连接托架两侧的中部，本实用新型，利用驱动电机驱动丝杆转动，丝杆转动驱动连接杆上下移动，连接杆上下移动带动托架上下移动，便于基片的放置以及基片位置的调整，利于提高气相沉积作业的效率；利用转动电机驱动连接筒转动，连接筒转动驱动出气口转动使基片底面均匀的蒸镀，提高镀膜的质量；利用气缸工作驱动弧形板转动导向蒸发物气体集中向一小区域流动，便于小范围和小区域的基片镀膜工作，提高装置整体的适应性。

主权项

1.一种物理气相沉积设备，包括气相沉积箱(1)和蒸镀器(9)，其特征在于：所述气相沉积箱(1)上部的两侧对应竖直安装有两组驱动电机(7)，两组所述驱动电机(7)的输出轴末端对应连接两根丝杆(6)的顶端，两根所述丝杆(6)的外部对应通过两根连接杆(5)连接托架(4)两侧的中部，所述气相沉积箱(1)外部一侧的下部安装有真空泵(2)，所述气相沉积箱(1)的底部水平安装有导轨(10)，所述导轨(10)的上部安装移动小车(8)，所述移动小车(8)的上部竖直安装有蒸镀器(9)，所述气相沉积箱(1)顶部开口的上部滑动安装有活动门(3)，所述蒸镀器(9)包括密封箱(91)、蒸发物(92)、加热电阻丝(93)、导筒(94)、连接筒(95)、出气口(96)和导流板(97)，所述密封箱(91)底板的中部放置有蒸发物(92)，所述密封箱(91)两侧开设的凹槽内对应安装有加热电阻丝(93)，所述密封箱(91)顶部开口的上部焊接有导筒(94)，所述导筒(94)的上部连接有连接筒(95)，所述连接筒(95)的顶端水平焊接有出气口(96)，所述出气口(96)的上部水平安装有导流板(97)。