[实用新型]具有自清洗功能的排气切换装置有效
申请号: | 201821246946.6 | 申请日: | 2018-08-03 |
公开(公告)号: | CN208433383U | 公开(公告)日: | 2019-01-25 |
发明(设计)人: | 袁林涛;高英哲;叶日铨;刘家桦 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 江西省上饶市淮*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本实用新型提供一种具有自清洗功能的排气切换装置,包括排气切换箱、清洗管路、排气挡板及驱动器,所述排气切换箱上设有进气口、多个排气口、进水口和排水口,所述进气口和多个所述排气口位于所述排气切换箱的不同侧,所述排水口位于所述排气切换箱的底部;所述清洗管路一端连接至一清洗液体源,另一端通过所述进水口延伸到所述排气切换箱的内部;所述排气挡板位于所述排气切换箱的内部,且位于所述排气口所在的同一侧;所述驱动器位于所述排气切换箱的外部,所述驱动器与所述排气挡板相连接,以驱动所述排气挡板于多个所述排气口之间移动。本实用新型的具有自清洗功能的排气切换装置结构简单,使用方便,能有效去除盐结晶及其他污染物。 | ||
搜索关键词: | 切换箱 排气 排气挡板 排气口 驱动器 排气切换装置 自清洗功能 进气口 本实用新型 清洗管路 进水口 排水口 一端连接 盐结晶 液体源 去除 清洗 污染物 驱动 外部 延伸 移动 | ||
【主权项】:
1.一种具有自清洗功能的排气切换装置,其特征在于,包括:排气切换箱,所述排气切换箱上设有进气口、多个排气口、进水口和排水口,所述进气口和多个所述排气口位于所述排气切换箱的不同侧,所述排水口位于所述排气切换箱的底部;清洗管路,所述清洗管路一端连接至一清洗液体源,另一端通过所述进水口延伸到所述排气切换箱的内部;排气挡板,位于所述排气切换箱的内部,且位于所述排气口所在的同一侧;驱动器,位于所述排气切换箱的外部,所述驱动器与所述排气挡板相连接,以驱动所述排气挡板于多个所述排气口之间移动。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造