[实用新型]一种化学气相沉积炉的支承装置有效
申请号: | 201821256185.2 | 申请日: | 2018-08-03 |
公开(公告)号: | CN208517527U | 公开(公告)日: | 2019-02-19 |
发明(设计)人: | 南志华;翟雨佳;刘平;陈锐;侯振华;李文红;朱佰喜 | 申请(专利权)人: | 深圳市石金科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 罗伟富 |
地址: | 518105 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开一种化学气相沉积炉的支承装置,包括用于交替对基体进行支承的交替支承机构,所述交替支承机构包括至少两组支承件和用于驱动支承件交替支承基体的交替驱动机构;其中,所述交替驱动机构包括至少两个滑槽以及驱动支承件在滑槽中移动的动力机构;所述滑槽包括支承段和交替段,所述交替段的高度低于支承段的高度;当支承件的下端移动至支承段时,其上端支承在基体的下端面,当支承件的下端移动至交替段时,其上端远离基体;工作时,至少有一组支承件位于支承段上。本支承装置不但可以支承质量大小不同的基体,且支承处不会产生无薄膜的缺口,使得基体表面能均匀地一次沉积到所需的薄膜,提高沉积质量,降低生产成本。 | ||
搜索关键词: | 支承件 支承段 支承 支承装置 交替段 滑槽 化学气相沉积炉 交替驱动 支承机构 上端 下端 沉积 薄膜 移动 本实用新型 驱动 动力机构 基体表面 支承基体 下端面 两组 | ||
【主权项】:
1.一种化学气相沉积炉的支承装置,其特征在于,包括用于交替对基体进行支承的交替支承机构,所述交替支承机构包括至少两组支承件和用于驱动支承件交替支承基体的交替驱动机构;其中,所述交替驱动机构包括至少两个设置在支承板上呈环形的滑槽以及用于驱动支承件在滑槽中移动的动力机构;所述滑槽包括支承段和交替段,所述交替段的高度低于支承段的高度;每组支承件至少包括两个支承件,且沿着圆周方向均匀分布在滑槽的上方;当支承件的下端移动至支承段时,其上端支承在基体的下端面,当支承件的下端移动至交替段时,其上端远离基体;工作时,至少有一组支承件位于支承段上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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