[实用新型]一种镀膜设备有效
| 申请号： | 201821256383.9 | 申请日： | 2018-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN208733216U | 公开（公告）日： | 2019-04-12 |
| 发明（设计）人： | 陈策;丁维红;肖念恭;陈吉利 | 申请（专利权）人： | 信阳舜宇光学有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/46 |
| 代理公司： | 北京谨诚君睿知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11538 | 代理人： | 陆鑫;延慧 |
| 地址： | 464000 河南*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种镀膜设备，包括真空室(1)，设置在所述真空室(1)中的靶材基座(11)和基底夹具(12)，所述靶材基座(11)设置于所述基底夹具(12)的上方；还包括电极切换装置(13)；所述电极切换装置(13)与所述靶材基座(11)相互连接，且所述靶材基座(11)为偶数个。通过交替变换溅射靶材的电极性，从而实现本实用新型在镀膜过程中，使带正电荷的等离子体轮流轰击电极性为阴极的溅射靶材，从而避免的长时间轰击同一个溅射靶材而导致溅射靶材“中毒”，进而避免了在镀膜过程中，溅射靶材的失效，有效提高了溅射靶材的使用寿命，并且进一步提高了镀膜设备的镀膜效率。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射靶材 靶材基座 镀膜设备 本实用新型 电极切换 镀膜过程 基底夹具 电极性 真空室 轰击 等离子体 阴极 镀膜效率 交替变换 使用寿命 正电荷 轮流 | ||
【主权项】：
1.一种镀膜设备，包括真空室(1)，设置在所述真空室(1)中的靶材基座(11)和基底夹具(12)，所述靶材基座(11)设置于所述基底夹具(12)的上方；其特征在于，还包括电极切换装置(13)；所述电极切换装置(13)与所述靶材基座(11)相互连接，且所述靶材基座(11)为偶数个。
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