[实用新型]通过带为7300-7500nm的气体检测滤光片有效
申请号: | 201821264880.3 | 申请日: | 2018-08-06 |
公开(公告)号: | CN209373162U | 公开(公告)日: | 2019-09-10 |
发明(设计)人: | 陶占辉;吕晶;刘晶 | 申请(专利权)人: | 杭州麦乐克科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;G01N21/01 |
代理公司: | 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 | 代理人: | 唐迅 |
地址: | 311188 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种通过带为7300‑7500nm的气体检测滤光片,包括以单晶锗为原材料的基板,以Ge、ZnS为第一镀膜层和以Ge、ZnS为第二镀膜层,且所述基板设于第一镀膜层与第二镀膜层之间。本实用新型所得到的一种通过带为7300‑7500nm的气体检测滤光片,其在气体检测过程中,可极大的提高测试精准度,适合于大范围的推广和使用。该滤光片50%Cut on=7300±20nm,50%Cut on=7500±20nm,7350~7450nm,Tavg≥85%,300~11000nm(通带区域除外),Tavg≤0.1%。 | ||
搜索关键词: | 气体检测 镀膜层 滤光片 本实用新型 基板 单晶锗 精准度 通带 测试 | ||
【主权项】:
1.一种通过带为7300‑7500nm的气体检测滤光片,包括以单晶锗为原材料的基板(2),以Ge、ZnS为第一镀膜层(1)和以Ge、ZnS为第二镀膜层(3),其特征在于:所述基板(2)设于第一镀膜层(1)与第二镀膜层(3)之间,所述第一镀膜层(1)由内向外依次排列包含有428nm厚度的Ge层、615nm厚度的ZnS层、134nm厚度的Ge层、699nm厚度的ZnS层、376nm厚度的Ge层、680nm厚度的ZnS层、372nm厚度的Ge层、732nm厚度的ZnS层、412nm厚度的Ge层、654nm厚度的ZnS层、203nm厚度的Ge层、639nm厚度的ZnS层、417nm厚度的Ge层、723nm厚度的ZnS层、321nm厚度的Ge层、697nm厚度的ZnS层、379nm厚度的Ge层、861nm厚度的ZnS层、801nm厚度的Ge层、686nm厚度的ZnS层、539nm厚度的Ge层、860nm厚度的ZnS层、594nm厚度的Ge层、1007nm厚度的ZnS层、488nm厚度的Ge层、944nm厚度的ZnS层、531nm厚度的Ge层、984nm厚度的ZnS层、548nm厚度的Ge层、1084nm厚度的ZnS层、471nm厚度的Ge层、1163nm厚度的ZnS层、630nm厚度的Ge层、1128nm厚度的ZnS层、566nm厚度的Ge层;所述的第二镀膜层(3)由内向外依次排列包含有159nm厚度的Ge层、121nm厚度的ZnS层、106nm厚度的Ge层、137nm厚度的ZnS层、153nm厚度的Ge层、197nm厚度的ZnS层、75nm厚度的Ge层、130nm厚度的ZnS层、60nm厚度的Ge层、115nm厚度的ZnS层、116nm厚度的Ge层、202nm厚度的ZnS层、270m厚度的Ge层、200nm厚度的ZnS层、159nm厚度的Ge层、190nm厚度的ZnS层、130nm厚度的Ge层、184nm厚度的ZnS层、123nm厚度的Ge层、328nm厚度的ZnS层、80nm厚度的Ge层、217nm厚度的ZnS层、193nm厚度的Ge层、273nm厚度的ZnS层、134nm厚度的Ge层、261nm厚度的ZnS层、127nm厚度的Ge层、187nm厚度的ZnS层、142nm厚度的Ge层、406nm厚度的ZnS层、215nm厚度的Ge层、283nm厚度的ZnS层、162nm厚度的Ge层、413nm厚度的ZnS层、182nm厚度的Ge层、385nm厚度的ZnS层、192nm厚度的Ge层、368nm厚度的ZnS层、154nm厚度的Ge层、386nm厚度的ZnS层、323nm厚度的Ge层、662nm厚度的ZnS层、466nm厚度的Ge层、747nm厚度的ZnS层、418nm厚度的Ge层、702nm厚度的ZnS层、303nm厚度的Ge层、762nm厚度的ZnS层、406nm厚度的Ge层、643nm厚度的ZnS层、395nm厚度的Ge层、781nm厚度的ZnS层、447nm厚度的Ge层、1075nm厚度的ZnS层。
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