[实用新型]一种双载台芯片图形曝光机有效
| 申请号： | 201821316933.1 | 申请日： | 2018-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN208796017U | 公开（公告）日： | 2019-04-26 |
| 发明（设计）人： | 韦日文;王胜利 | 申请（专利权）人： | 深圳市矽电半导体设备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518172 广东省深圳市龙岗区龙城街*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种双载台芯片图形曝光机。所述一种双载台芯片图形曝光机，包括，底座；第一承片台，通过第一滑轨连接于底座；第二承片台，通过第二滑轨连接于底座；光刻部，固定于底座；第一承片台能够沿第一滑轨运动到光刻部正下方；第二承片台能够沿第二滑轨运动到光刻部正下方；采用第一承片台和第二承片台共同为光刻部供料的方式，当第一承片台上的物料完成光刻后并离开光刻部后，第二承片台移动到光刻部进行光刻；或者第二承片台完成光刻后，第一承片台移动到光刻部；从而减小光刻部空闲时间，提升双载台芯片图形曝光机的工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 承片台 芯片图形 曝光机 载台 底座 滑轨连接 滑轨运动 本实用新型 工作效率 承片 供料 减小 移动 空闲 | ||
【主权项】：
1.一种双载台芯片图形曝光机，其特征在于：包括，底座；第一承片台，通过第一滑轨连接于底座；第二承片台，通过第二滑轨连接于底座；光刻部，固定于底座；第一承片台能够沿第一滑轨运动到光刻部正下方；第二承片台能够沿第二滑轨运动到光刻部正下方。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市矽电半导体设备有限公司，未经深圳市矽电半导体设备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201821316933.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
