[实用新型]配向膜印刷版面Mark的改进结构有效
| 申请号： | 201821383420.2 | 申请日： | 2018-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN208766426U | 公开（公告）日： | 2019-04-19 |
| 发明（设计）人： | 金鑫鑫 | 申请（专利权）人： | 武汉瑞普赛精密技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 | 代理人： | 朱凌 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区佛祖岭三路*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种配向膜印刷版面Mark的改进结构；在印刷版的对位校准Mark的外围设置一个保护圈，该保护圈环绕在对位校准Mark的外围。由于本实用新型在印刷版面的对位校准Mark的外围设置一个保护圈并形成高低段差，增强了对位校准Mark的耐应力能力，从而避免对位校准Mark在印刷过程中受力而损坏，解决了实际生产过程中易出现对位校准Mark损坏及剥落的现象，使得产品可使用次数提升，在保证印刷精度同时增加了印刷版的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 校准 对位 保护圈 印刷版 本实用新型 配向膜印刷 改进结构 外围 版面 生产过程 使用寿命 印刷过程 耐应力 剥落 段差 受力 环绕 印刷 保证 | ||
【主权项】：
1.一种配向膜印刷版面Mark的改进结构；其特征在于：在印刷版的对位校准Mark的外围设置一个保护圈，该保护圈环绕在对位校准Mark的外围。
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