[实用新型]兼具清洁、研磨与抛光功能的抛光垫与应用其的抛光装置有效
申请号: | 201821420132.X | 申请日: | 2018-08-31 |
公开(公告)号: | CN209360588U | 公开(公告)日: | 2019-09-10 |
发明(设计)人: | 林清吉 | 申请(专利权)人: | 林清吉 |
主分类号: | A47L11/292 | 分类号: | A47L11/292;A47L11/30;A47L11/14;A47L11/40;B24D13/14;B24D3/00 |
代理公司: | 北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙) 11276 | 代理人: | 刘云贵 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种抛光装置,更特别地提供了一种兼具清洁、研磨与抛光功能的抛光垫与应用其的抛光装置,其包括清洁部件,具有粗糙的清洁面与背面;以及抛光及研磨部件,设置于所述清洁面,其中所述抛光及研磨部件裸露于部分所述清洁面。由此,本案的抛光垫与应用其的抛光装置可同时进行大理石、花岗石、人造大理石、石英砖等地板的清洁步骤及各地板的研磨与抛光步骤,达到省时、省钱的目的,同时不需要增加额外的人力。 | ||
搜索关键词: | 抛光装置 研磨 抛光垫 清洁面 抛光功能 研磨部件 抛光 应用 本实用新型 人造大理石 抛光步骤 清洁步骤 清洁部件 清洁 花岗石 石英砖 省时 大理石 背面 粗糙 地板 裸露 | ||
【主权项】:
1.一种兼具清洁、研磨与抛光功能的抛光垫,其特征在于,所述抛光垫,包括:清洁部件,具有粗糙的清洁面与背面;以及抛光及研磨部件,设置于所述清洁面,其中所述抛光及研磨部件裸露于部分所述清洁面。
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