[实用新型]扫描式光刻胶涂布系统有效
| 申请号： | 201821480547.6 | 申请日： | 2018-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN208705657U | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 吴明锋 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种扫描式光刻胶涂布系统，所述扫描式光刻胶涂布系统包括：用于放置待涂布晶圆的晶圆承载台；多孔式光刻胶涂布头，包括内部设有容纳腔的涂布主体和与容纳腔连通且位于涂布主体下方的喷嘴；用于驱动多孔式光刻胶涂布头在待涂布晶圆的上方沿垂直于涂布主体长度方向的水平方向移动的第一驱动装置。本实用新型所提供的扫描式光刻胶涂布系统通过使用多孔式光刻胶涂布头进行扫描式涂布，并通过匀胶旋转使待涂布晶圆表面的光刻胶厚度分布更为均匀，进而改善光刻特征尺寸在晶圆面内的均匀性，提升产品的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻胶涂布 扫描式 涂布主体 多孔式 本实用新型 容纳腔 晶圆 第一驱动装置 水平方向移动 晶圆承载台 厚度分布 晶圆表面 喷嘴 光刻胶 均匀性 光刻 良率 圆面 匀胶 连通 垂直 驱动 | ||
【主权项】：
1.一种扫描式光刻胶涂布系统，其特征在于，包括：用于放置待涂布晶圆的晶圆承载台；多孔式光刻胶涂布头，包括涂布主体及至少两个喷嘴；其中，所述涂布主体为内部设有容纳腔的中空结构，所述喷嘴位于所述涂布主体的下方，与所述容纳腔相连通，且沿所述涂布主体的长度方向排布；及用于在光刻胶涂布过程中驱动所述多孔式光刻胶涂布头移动的第一驱动装置，与所述多孔式光刻胶涂布头相连接。
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