[实用新型]半导体扩散设备有效
申请号: | 201821524080.0 | 申请日: | 2018-09-18 |
公开(公告)号: | CN208873701U | 公开(公告)日: | 2019-05-17 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/22 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 230601 安徽省合肥市合肥*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型提供一种半导体扩散设备,包括扩散炉体、炉门及空气阻气门;扩散炉体用于容纳承载晶圆的晶舟,扩散炉体的炉管一端封闭,炉管另一端具有装卸通口;炉门设置于扩散炉体具有装卸通口的炉管一端,且与扩散炉体活动连接,用于扩散制程中封闭装卸通口;空气阻气门与清洁气体管路的一端相连接,清洁气体管路的另一端连接至一清洁气体源;空气阻气门与装卸通口相邻,当炉门打开,并使晶舟从扩散炉体内经过装卸通口下降的过程中,空气阻气门将从清洁气体管路喷出的清洁气体分散喷射到晶圆表面及周围,保护晶圆不被污染。本实用新型结构简单,使用方便,能有效减少晶圆的颗粒污染,提高生产良率。 | ||
搜索关键词: | 扩散炉 通口 清洁气体 装卸 阻气门 晶圆 炉管 半导体扩散 本实用新型 晶舟 炉门 清洁气体源 活动连接 晶圆表面 颗粒污染 炉门打开 一端封闭 一端连接 有效减少 良率 喷出 制程 喷射 承载 体内 扩散 容纳 封闭 污染 生产 | ||
【主权项】:
1.一种半导体扩散设备,其特征在于,包括:扩散炉体,用于容纳承载晶圆的晶舟,所述扩散炉体的炉管一端封闭,炉管另一端具有装卸通口;炉门,设置于所述扩散炉体具有所述装卸通口的炉管一端,且与所述扩散炉体活动连接,用于扩散制程中封闭所述装卸通口;及,空气阻气门,与清洁气体管路的一端相连接,所述清洁气体管路的另一端连接至一清洁气体源,所述空气阻气门与所述装卸通口相邻,当所述炉门打开,并使所述晶舟从所述扩散炉体内经过所述装卸通口下降的过程中,所述空气阻气门将从所述清洁气体管路喷出的清洁气体分散喷射到通过所述装卸通口的所述晶圆表面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造