[实用新型]一种玻璃加工用真空磁控溅射设备有效
申请号: | 201821593931.7 | 申请日: | 2018-09-28 |
公开(公告)号: | CN208898986U | 公开(公告)日: | 2019-05-24 |
发明(设计)人: | 孙振国;刘双;时炳忠 | 申请(专利权)人: | 天津南玻节能玻璃有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C03C17/00 |
代理公司: | 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 | 代理人: | 李莎 |
地址: | 301700 天津市武清*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种玻璃加工用真空磁控溅射设备,包括真空溅射室、设置在真空溅射室内的靶材,靶材的下方设有上遮挡板,靶材的下方设有下遮挡板,靶材的两侧设有侧遮挡板,下遮挡板上设有两个粉末清除机构,粉末清除机构包括若干同心设置的落料圆环孔,落料圆环孔将下遮挡板分为若干部分,相邻部分的下遮挡板之间连接有弧形板,落料圆环孔内设有防堵塞杆,下遮挡板的下方设有粉末收集盒,粉末收集盒内设有驱动防堵塞杆在落料圆环孔内圆周运动的驱动机构。本实用新型在下遮挡板上沉积的部分粉末状颗粒可通过落料圆环孔落入粉末收集盒中,减少下遮挡板上的粉末状颗粒,有利于降低清洁和更换的频率,提高设备的稼动率。 | ||
搜索关键词: | 遮挡板 圆环孔 落料 靶材 粉末收集盒 真空磁控溅射设备 本实用新型 粉末状颗粒 玻璃加工 粉末清除 真空溅射 防堵塞 侧遮挡板 驱动机构 同心设置 弧形板 稼动率 内圆周 沉积 驱动 室内 清洁 | ||
【主权项】:
1.一种玻璃加工用真空磁控溅射设备,包括真空溅射室、设置在真空溅射室内的靶材,靶材的下方设有上遮挡板(3),靶材的下方设有下遮挡板(4),靶材的两侧设有侧遮挡板(5),其特征在于:下遮挡板(4)上设有两个粉末清除机构(6),粉末清除机构(6)包括若干同心设置的落料圆环孔(61),落料圆环孔(61)上下贯通下遮挡板(4),落料圆环孔(61)将下遮挡板(4)分为若干部分,相邻部分的下遮挡板(4)之间连接有弧形板(62),弧形板(62)固定于下遮挡板(4)的上表面且向上凸起,落料圆环孔(61)内设有防堵塞杆(63),下遮挡板(4)的下方设有粉末收集盒(7),粉末收集盒(7)内设有驱动防堵塞杆(63)在落料圆环孔(61)内圆周运动的驱动机构(8)。
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