[实用新型]一种实用单晶碳化硅晶片的清洗装置

摘要

本实用新型公开了一种实用单晶碳化硅晶片的清洗装置，包括底板，底板的顶端由左到右依次固定安装有第一箱体、药液箱和QDR箱，第一箱体底端的内壁固定安装有抛光机主盘，抛光机主盘的顶端表面固定安装有绒毛毡，抛光机主盘的顶端通过支撑柱与顶板的底端固定连接，顶板的底端两侧均固定安装有伸缩气缸，伸缩气缸的输出端固定连接有抛头压板。本实用新型一种实用单晶碳化硅晶片的清洗装置，通过水抛光过程，使制程时间缩短一半以上，节省清洗药剂使用量，节省成本；能够有效的去除化学反应形成的氧化膜，对晶片清洗的效果有显著的提升；提高了对后段无尘室晶片清洗的通过率，延长了药液寿命。

主权项

1.一种实用单晶碳化硅晶片的清洗装置，包括底板(1)，其特征在于，所述底板(1)的顶端由左到右依次固定安装有第一箱体(2)、药液箱(3)和QDR箱(4)，所述第一箱体(2)底端的内壁固定安装有抛光机主盘(5)，所述抛光机主盘(5)的顶端表面固定安装有绒毛毡(6)，所述抛光机主盘(5)的顶端通过支撑柱与顶板(7)的底端固定连接，所述顶板(7)的底端两侧均固定安装有伸缩气缸(8)，所述伸缩气缸(8)的输出端固定连接有抛头压板(9)，所述抛头压板(9)的底端与陶瓷盘(10)的顶端固定连接，所述陶瓷盘(10)的底端设有晶片(13)，所述药液箱(3)底端的内壁固定安装有循环滤芯(19)，所述循环滤芯(19)的顶端固定安装有第一晶片盒(17)，所述药液箱(3)两侧的内壁均固定安装有超声波震板(18)，所述QDR箱(4)底端的内壁固定安装有第二晶片盒(20)。