[实用新型]相移掩膜版及相移掩模光刻设备

摘要

本实用新型提供一种相移掩膜版及相移掩模光刻设备，相移掩膜版包括透明光刻板基板；透明光刻板基板的上表面包括沿预定方向延伸且交替排列的第一和第二透光区；第一透光区包括沿预定方向依次间隔交替排列的第一和第二相移区，第二透光区包括沿预定方向依次间隔交替排列的第四和第三相移区；光刻板基板的下表面包括多个沿预定方向延伸的不透光图形区，其同时部分遮蔽第一和第二相移区以及第四和第三相移区。透过第一与第二相移区的出射光束、第一与第三相移区的出射光束、第一与第四相移区的出射光束之间分别具有90、180度、270度的相位差，这样在晶圆表面形成的暗区图案为完全的暗区，提高了晶圆表面的光刻图形的图像分辨率。

主权项

1.一种用于制备柱状结构的相移掩膜版，其特征在于，包括：透明光刻板基板；所述透明光刻板基板的上表面包括多个沿预定方向延伸的第一透光区和第二透光区，所述第一透光区和第二透光区交替排列；各所述第一透光区包括沿所述预定方向依次间隔交替排列的第一相移区和第二相移区，各所述第二透光区包括沿所述预定方向依次间隔交替排列的第四相移区和第三相移区；所述透明光刻板基板的下表面包括多个沿所述预定方向延伸的不透光图形区，各所述不透光图形区同时部分遮蔽各所述第一透光区中的所述第一相移区和所述第二相移区，并同时部分遮蔽各所述第二透光区中的所述第四相移区和所述第三相移区；其中，透过所述第一相移区的出射光束与透过所述第二相移区的出射光束之间具有90度的相位差，透过所述第一相移区的出射光束与透过所述第三相移区的出射光束之间具有180度的相位差，透过所述第一相移区的出射光束与透过所述第四相移区的出射光束之间具有270度的相位差。