[实用新型]离子溅射仪有效
| 申请号： | 201821721176.6 | 申请日： | 2018-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN209194043U | 公开（公告）日： | 2019-08-02 |
| 发明（设计）人： | 李乐华;张志阳;张亮 | 申请（专利权）人： | 欣旺达电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/50 |
| 代理公司： | 深圳市明日今典知识产权代理事务所(普通合伙) 44343 | 代理人： | 王杰辉 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道石*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种离子溅射仪，包括离子溅射仪本体和设置于离子溅射仪本体内的自动旋转样品架，自动旋转样品架用于在离子溅射仪本体对样品进行溅射镀膜时支撑并旋转样品。本实用新型提供的离子溅射仪，通过在离子溅射仪本体上设置自动旋转样品架，实现离子溅射仪对样品进行喷镀的同时，对样品进行旋转，进而实现对样品进行全面地、均匀地喷镀，避免了因喷镀不均匀或局部喷镀不到位，而需进行重复喷镀，造成不必要的浪费，降低了对靶头的消耗。 | ||
| 搜索关键词： | 离子溅射仪 喷镀 自动旋转 样品架 本实用新型 溅射镀膜 不均匀 对靶 体内 消耗 支撑 重复 | ||
【主权项】：
1.一种离子溅射仪，其特征在于：包括离子溅射仪本体和设置于离子溅射仪本体内的自动旋转样品架，所述自动旋转样品架用于在离子溅射仪本体对样品进行溅射镀膜时支撑并旋转所述样品。
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