[实用新型]浅层X射线皮肤治疗装置及系统有效
申请号: | 201821734765.8 | 申请日: | 2018-10-24 |
公开(公告)号: | CN209378335U | 公开(公告)日: | 2019-09-13 |
发明(设计)人: | 梁栋;洪序达;葛永帅;石伟;胡战利;郑海荣 | 申请(专利权)人: | 深圳先进技术研究院 |
主分类号: | A61N5/10 | 分类号: | A61N5/10 |
代理公司: | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人: | 吴乃壮 |
地址: | 518000 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型实施例提供的一种浅层X射线皮肤治疗装置及系统。其中,上述浅层X射线皮肤治疗装置包括X光源阵列组件及主控组件;所述X光源阵列组件包括基座和多个均匀分布于所述基座的冷阴极X光源;所述冷阴极X光源与所述主控组件电性连接;所述冷阴极X光源在所述主控组件的控制下工作。降低辐射剂量,确保使用安全;射线分布均匀,提高效果;辐射能量可控制,避免产生高能辐射。改善长时间使用过程中光源本身的热量积累,在确保光源使用寿命的同时,延迟单次治疗的持续使用时长,提高治疗效率。 | ||
搜索关键词: | 皮肤治疗装置 主控组件 冷阴极 浅层 阵列组件 光源使用寿命 本实用新型 电性连接 辐射剂量 辐射能量 高能辐射 热量积累 可控制 时长 治疗 光源 射线 延迟 | ||
【主权项】:
1.一种浅层X射线皮肤治疗装置,其特征在于,所述浅层X射线皮肤治疗装置包括X光源阵列组件及主控组件;所述X光源阵列组件包括基座和多个均匀分布于所述基座的冷阴极X光源;所述冷阴极X光源与所述主控组件电性连接;所述冷阴极X光源在所述主控组件的控制下工作。
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