[实用新型]基于二硫化钼/石墨烯可饱和吸收体的调Q固体激光器有效
| 申请号： | 201821746028.X | 申请日： | 2018-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN209217428U | 公开（公告）日： | 2019-08-06 |
| 发明（设计）人： | 孔春霞;罗云;戴瑞;张雪;季晓炜 | 申请（专利权）人： | 南京信息工程大学 |
| 主分类号： | H01S3/11 | 分类号： | H01S3/11;H01S3/0941 |
| 代理公司： | 南京汇盛专利商标事务所(普通合伙) 32238 | 代理人： | 张立荣 |
| 地址： | 210044 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种基于二硫化钼/石墨烯可饱和吸收体的调Q固体激光器，半导体激光器产生的连续光束依次穿过耦合透镜、第一平凹镜、增益介质和第二平凹镜，并通过第二平凹镜反射形成第一反射光束，第一反射光束射至反射镜上，并经反射镜反射形成第二反射光束，第二反射光束回射至第二平凹镜上，并经第二平凹镜反射形成第三反射光束，第三反射光束穿过增益介质并射至第一平凹镜，经第一平凹镜反射形成第四反射光束，第四反射光束穿过MoS2/Gr可饱和吸收体并射至输出镜上。相较于单纯的二硫化钼，MoS2/Gr复合材料对氧化还原反应的催化能力显著提高，在光学激光器领域应用更为广泛。本实用新型流程少、操作简单，制备质量完全满足固体激光器应用要求。 | ||
| 搜索关键词： | 反射光束 平凹镜 可饱和吸收体 二硫化钼 反射 调Q固体激光器 本实用新型 增益介质 石墨烯 穿过 半导体激光器 氧化还原反应 反射镜反射 固体激光器 光学激光器 催化能力 复合材料 连续光束 领域应用 应用要求 耦合透镜 反射镜 输出镜 回射 制备 | ||
【主权项】：
1.一种基于二硫化钼/石墨烯可饱和吸收体的调Q固体激光器，其特征在于：包括由左至右依次并列设置的半导体激光器（1）、耦合透镜（2）、第一平凹镜（3）、Pr:YLF晶体（4）和第二平凹镜（5），在耦合透镜（2）的下方设置反射镜（6），在第二平凹镜（5）的下方设置MoS2/Gr可饱和吸收体（7）和输出镜（8），所述半导体激光器（1）产生的连续光束依次穿过耦合透镜（2）、第一平凹镜（3）、Pr:YLF晶体（4）和第二平凹镜（5），并通过第二平凹镜（5）反射形成第一反射光束，第一反射光束射至反射镜（6）上，并经反射镜（6）反射形成第二反射光束，第二反射光束回射至第二平凹镜（5）上，并经第二平凹镜（5）反射形成第三反射光束，第三反射光束穿过Pr:YLF晶体（4）并射至第一平凹镜（3），经第一平凹镜（3）反射形成第四反射光束，第四反射光束穿过MoS2/Gr可饱和吸收体（7）并射至输出镜（8）上；所述第一反射光束与第二反射光束相重合，第三反射光束与穿过Pr:YLF晶体（4）的所述连续光束相重合；所述半导体激光器（1）发射的连续光束的中心波长为444nm；所述第一平凹镜（3）朝向半导体激光器（1）的一面镀有444nm增透膜和640nm高反膜，背向半导体激光器（1）的一面镀有640nm高反膜；所述Pr:YLF晶体（4）朝向半导体激光器（1）的一面镀有镀有444nm增透膜和640nm高反膜，背向半导体激光器（1）的一面镀有640nm的增透膜；所述第二平凹镜（5）中朝向第一平凹镜（3）方向的一面镀有640nm高反膜；所述输出镜（8）朝向MoS2/Gr可饱和吸收体（7）的一面的镀有640nm增透膜。
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