[实用新型]一种CMP抛光设备用抛光载物台有效

专利信息
申请号: 201821756908.5 申请日: 2018-10-29
公开(公告)号: CN208895833U 公开(公告)日: 2019-05-24
发明(设计)人: 方明喜;肖学才;常强 申请(专利权)人: 爱利彼半导体设备(中国)有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B41/06;B24B41/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种CMP抛光设备用抛光载物台,包括载物台,所述载物台的上表面设置有第一吸盘,第一吸盘的外部环绕设置有第二吸盘,所述第二吸盘的外部环绕设置有第三吸盘,所述第一吸盘、第二吸盘和第三吸盘的下端均固定载物台的上表面,所述第一吸盘、第二吸盘和第三吸盘的内壁处设置有吸盘壁空腔;该CMP抛光设备用抛光载物台,通过第一吸盘、第二吸盘、第三吸盘分别通过连管与风机连接,增加吸盘与CMP板连接的吸附点,避免单个吸盘与CMP板之间出现接触不良,造成的CMP板固定松动,提高CMP板安装的稳定性,同时第一吸盘、第二吸盘、第三吸盘的上端均采用V字形吸环,增加吸环与CMP板接触的面积,提高CMP板固定的牢靠性。
搜索关键词: 吸盘 抛光设备 载物台 抛光 环绕设置 板固定 上表面 吸环 固定载物台 风机连接 接触不良 板安装 板接触 板连接 牢靠性 吸盘壁 上端 外部 空腔 连管 内壁 松动 吸附 下端 载物
【主权项】:
1.一种CMP抛光设备用抛光载物台,包括载物台(1),其特征在于:所述载物台(1)的上表面设置有第一吸盘(2),所述第一吸盘(2)的外部环绕设置有第二吸盘(3),所述第二吸盘(3)的外部环绕设置有第三吸盘(4),所述第一吸盘(2)、第二吸盘(3)和第三吸盘(4)的下端均固定载物台(1)的上表面,所述第一吸盘(2)、第二吸盘(3)和第三吸盘(4)的内壁处设置有吸盘壁空腔(11),所述第一吸盘(2)、第二吸盘(3)和第三吸盘(4)的上端表面设置有吸环(5),所述吸环(5)通过粘合分别固定在第一吸盘(2)、第二吸盘(3)和第三吸盘(4)的上端表面,所述第一吸盘(2)、第二吸盘(3)和第三吸盘(4)外侧均设置有支撑外套环(6),所述支撑外套环(6)的下端通过焊接固定在载物台(1)的上表面。
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