[实用新型]偏振膜的制造装置有效

专利信息
申请号: 201821786937.6 申请日: 2018-10-31
公开(公告)号: CN209289788U 公开(公告)日: 2019-08-23
发明(设计)人: 植田幸治;松冈勇介 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: B29C71/00 分类号: B29C71/00;B29L11/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 葛凡
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 实用新型提供一种偏振膜的制造装置,其为用于由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的制造装置,其包括:由多个辊构成的聚乙烯醇系树脂膜的运送路径;以及配置在该运送路径上且用于容纳要浸渍聚乙烯醇系树脂膜的处理液的2个以上的处理槽,该2个以上的处理槽从运送路径的上游侧起依次包括:用于容纳染色处理液的染色处理槽和用于容纳第一交联处理液的第一交联处理槽,第一交联处理槽的深度小于染色处理槽的深度,第一交联处理槽的底面处于比染色处理槽的底面高的位置,制造装置还包括与第一交联处理槽邻接的台面,台面配置于与第一交联处理槽的底面大致相同的高度。
搜索关键词: 处理槽 交联 染色处理 制造装置 聚乙烯醇系树脂膜 运送路径 偏振膜 底面 处理液 台面 容纳 浸渍 本实用新型 邻接 配置 上游 制造
【主权项】:
1.一种偏振膜的制造装置,其特征在于,其为用于由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的制造装置,其包括:由多个辊构成的聚乙烯醇系树脂膜的运送路径;以及配置在所述运送路径上且用于容纳要浸渍所述聚乙烯醇系树脂膜的处理液的2个以上的处理槽,所述2个以上的处理槽从所述运送路径的上游侧起依次包括:用于容纳染色处理液的染色处理槽和用于容纳第一交联处理液的第一交联处理槽,第一交联处理槽的深度小于染色处理槽的深度,第一交联处理槽的底面处于比染色处理槽的底面高的位置,所述制造装置还包括与第一交联处理槽邻接的台面,所述台面配置于与第一交联处理槽的底面大致相同的高度。
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