[实用新型]一种ICF内爆过程四通道成像系统

摘要

本实用新型公开了一种ICF内爆过程四通道成像系统，所述的成像系统包括位于竖直方向且反射面相对的复合球面物镜Ⅰ和复合球面物镜Ⅱ，位于水平方向且反射面相对的复合球面物镜Ⅲ和复合球面物镜Ⅳ，以及X射线分幅相机；复合球面物镜Ⅰ和复合球面物镜Ⅱ的反射面分别和复合球面物镜Ⅲ和复合球面物镜Ⅳ的反射面构成四个KB镜通道。通过具有选通功能的X射线分幅相机，对靶丸压缩过程四个KB镜通道成像时间及时间间隔进行选取。该成像系统利用KB镜成像空间分辨率高达2.5μm~5μm的优势，消除了成像通道间大于10%的视场差异的影响，可对整个ICF靶丸内爆压缩过程实现高空间分辨率的准同视轴四通道成像，具有广阔且重要的应用前景。

主权项

1.一种ICF内爆过程四通道成像系统，其特征在于：所述的成像系统包括位于竖直方向且反射面相对的复合球面物镜Ⅰ（2）和复合球面物镜Ⅱ（3），位于水平方向且反射面相对的复合球面物镜Ⅲ（4）和复合球面物镜Ⅳ（5），以及X射线分幅相机（6）；复合球面物镜Ⅰ（2）的两个反射面为反射面Ⅰ（7）和反射面Ⅱ（8）；复合球面物镜Ⅱ（3）的两个反射面为反射面Ⅲ（9）和反射面Ⅳ（10）；复合球面物镜Ⅲ（4）的两个反射面为反射面Ⅴ（11）和反射面Ⅵ（12）；复合球面物镜Ⅳ（5）的两个反射面为反射面Ⅶ（13）和反射面Ⅷ（14）；内爆靶丸（1）为间接或直接驱动惯性约束聚变ICF的内爆靶丸；所述的X射线分幅相机（6）的竖直对称面与复合球面物镜Ⅰ（2）和复合球面物镜Ⅱ（3）的竖直对称面Ⅰ以及复合球面物镜Ⅲ（4）的竖直对称面、复合球面物镜Ⅳ（5）的竖直对称面重合；所述的反射面Ⅰ（7），反射面Ⅱ（8），反射面Ⅲ（9）和反射面Ⅳ（10）上分别涂覆有单层金属膜；所述的反射面Ⅴ（11），反射面Ⅵ（12），反射面Ⅶ（13）和反射面Ⅷ（14）上分别涂覆有窄能带X光多层膜；所述的复合球面物镜Ⅰ（2）的反射面Ⅰ（7）和复合球面物镜Ⅲ（4）的反射面Ⅴ（11）构成第一个Kirkpatrick‑Baze镜通道即KB镜通道；复合球面物镜Ⅰ（2）的反射面Ⅱ（8）和复合球面物镜Ⅳ（5）的反射面Ⅶ（13）构成第二个KB镜通道；复合球面物镜Ⅱ（3）的反射面Ⅲ（9）和复合球面物镜Ⅲ（4）的反射面Ⅵ（12）构成第三个KB镜通道；复合球面物镜Ⅱ（3）的反射面Ⅳ（10）和复合球面物镜Ⅳ（5）的反射面Ⅷ（14）构成第四个KB镜通道；所述的内爆靶丸（1）和复合球面物镜Ⅰ（2）的反射面Ⅰ（7）的中心的连线，与内爆靶丸（1）和复合球面物镜Ⅱ（3）的反射面Ⅳ（10）的中心的连线之间的夹角θ，即两个KB镜通道相对内爆靶丸（1）的夹角θ，夹角θ为四个KB镜通道之间的最大夹角，在内爆靶丸（1）内爆压缩初始时刻，夹角θ所引入的两个KB镜通道之间的最大视场几何差异值小于每个KB镜通道的空间分辨的二分之一。