[实用新型]一种外延沉积腔室有效
| 申请号： | 201821794671.X | 申请日： | 2018-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN209412356U | 公开（公告）日： | 2019-09-20 |
| 发明（设计）人： | 沈文杰;傅林坚;潘文博;董医芳;汤承伟;章杰峰;麻鹏达;周建灿 | 申请（专利权）人： | 浙江求是半导体设备有限公司;浙江晶盛机电股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/02 | 分类号： | C30B25/02 |
| 代理公司： | 杭州中成专利事务所有限公司 33212 | 代理人： | 周世骏 |
| 地址： | 311100 浙江省杭州市余杭区*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型属于半导体制造设备技术领域，具体涉及一种外延沉积腔室。该腔室包括工艺腔、外室、加热装置、气体注入装置和基座支撑装置；外室由外腔体和外腔盖组成，工艺腔固设于外腔体内；加热装置包括下电阻加热板和上电阻加热板，下电阻加热板设于工艺腔下方的外腔体内；上电阻加热板设于工艺腔上方的外腔盖内；工艺腔底部前侧设有凸台，基座支撑装置设于工艺腔底部中央；气体注入装置包括若干气体喷射器，安装在凸台内。本实用新型简单易于加工制造，且不需要定期拆卸清洗，降低了制造成本和维护成本。保证了反应区气体的均匀性，提高了外延生长均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 工艺腔 电阻加热板 气体注入装置 外延沉积腔室 本实用新型 加热装置 支撑装置 均匀性 外腔盖 凸台 外腔 外室 体内 半导体制造设备 气体喷射器 拆卸清洗 底部中央 外延生长 制造成本 反应区 外腔体 固设 腔室 加工 制造 保证 维护 | ||
【主权项】：
1.一种外延沉积腔室，包括工艺腔；其特征在于，还包括外室、加热装置、气体注入装置和基座支撑装置；所述外室由外腔体和外腔盖组成，所述工艺腔固设于所述外腔体内；所述加热装置包括下电阻加热板和上电阻加热板，下电阻加热板设于工艺腔下方的外腔体内；所述上电阻加热板设于工艺腔上方的外腔盖内；所述工艺腔底部前侧设有凸台，气体注入装置安装在所述凸台内；所述基座支撑装置设于工艺腔底部中央，包括基座与设于基座下部的旋转轴；基座上端面放置衬底晶片，旋转轴伸出至外室外，并与外部的旋转机构连接；所述气体注入装置包括若干气体喷射器；由下至上包括进气口、气体通道、出气口通道与出气口，进气口外接气体流量控制系统，通过该系统调控各气体喷射器出气流速。
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