[实用新型]光学成像系统有效
| 申请号： | 201821831867.1 | 申请日： | 2018-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN209070190U | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 许宰赫;白在铉;赵镛主 | 申请（专利权）人： | 三星电机株式会社 |
| 主分类号： | G02B13/00 | 分类号： | G02B13/00;G02B13/06;H04N5/225 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 刘奕晴;金光军 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： |
本公开提供了一种光学成像系统，光学成像系统包括：光学系统，包括从物方朝向像方顺序地设置的至少六个透镜；图像传感器，被配置为将入射穿过光学系统的光转换为电信号；以及可变光阑，被构造为改变入射孔直径并且被设置为朝向光学系统的最靠近物方的透镜的物方表面，并且，4.7mm | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 透镜 光学成像系统 图像传感器 物方表面 物方 入射 高分辨率 可变光阑 像方表面 光转换 亮度级 入射孔 光量 像方 成像 穿过 配置 | ||
【主权项】：
1.一种光学成像系统，其特征在于，所述光学成像系统包括：光学系统，包括从物方朝向像方顺序地设置的至少六个透镜；图像传感器，被配置为将入射穿过所述光学系统的光转换为电信号；以及可变光阑，被构造为改变入射孔直径并且被设置为朝向所述光学系统的最靠近所述物方的透镜的物方表面，并且，4.7mm<TTL<6.00mm，其中，TTL是从最靠近所述物方的所述透镜的所述物方表面到所述图像传感器的成像面的距离，并且‑0.5<(|Ri|‑|Rj|)/(|Ri|+|Rj|)<0.5，其中，Ri是所述光学系统的第二靠近所述图像传感器的透镜的物方表面的曲率半径，Rj是所述光学系统的第二靠近所述图像传感器的所述透镜的像方表面的曲率半径。
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