[实用新型]一种电光调制设备和再生放大器有效
申请号: | 201821884812.7 | 申请日: | 2018-11-15 |
公开(公告)号: | CN209297063U | 公开(公告)日: | 2019-08-23 |
发明(设计)人: | 艾庆康;舒严 | 申请(专利权)人: | 北京莱泽光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/03 | 分类号: | G02F1/03;G02F1/07;G02F1/01 |
代理公司: | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人: | 吴乃壮 |
地址: | 101300 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种电光调制设备,包括沿光路设置的玻片和电光晶体,所述电光晶体包括相对设置的第一表面和第二表面;发射激光依次通过所述玻片和所述电光晶体;对所述电光晶体的所述第一表面进行正向加压,对所述电光晶体的所述第二表面进行反向加压,其中,对所述电光晶体的所述第一表面进行正向加压和对所述电光晶体的所述第二表面进行反向加压的两个步骤交替进行。上述电光调制设备,能够改变激光输出方向,有效降低了加载到电光晶体上的高压值,或者说在相同的高压和晶体长度下,可以允许更大的晶体通光孔径,从而降低了电光开关驱动装置的制作难度。此外,还提供一种再生放大器。 | ||
搜索关键词: | 电光晶体 电光调制设备 加压 第二表面 第一表面 再生放大器 玻片 正向 激光 电光开关 光路设置 晶体通光 驱动装置 输出方向 相对设置 加载 发射 制作 | ||
【主权项】:
1.一种电光调制设备,其特征在于,包括沿光路设置的玻片和电光晶体,所述电光晶体包括相对设置的第一表面和第二表面;发射激光依次通过所述玻片和所述电光晶体;对所述电光晶体的所述第一表面进行正向加压,对所述电光晶体的所述第二表面进行反向加压,其中,对所述电光晶体的所述第一表面进行正向加压和对所述电光晶体的所述第二表面进行反向加压的两个步骤交替进行。
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