[实用新型]一种用于小间距扩散成结表征的测试结构有效

专利信息
申请号: 201821919497.7 申请日: 2018-11-21
公开(公告)号: CN209150052U 公开(公告)日: 2019-07-23
发明(设计)人: 于春蕾;李雪;邵秀梅;龚海梅 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;H01L23/544;G01R31/00;G01Q60/46
代理公司: 上海沪慧律师事务所 31311 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 专利公开了一种用于小间距扩散成结表征的测试结构,所述结构包括半绝缘InP衬底、N型InP缓冲层、InGaAs吸收层、N型InP帽层、光敏区、P电极、N电极,所述光敏区包括2个不同间距的3ⅹ2扩散窗口区阵列。本专利的优点在于:1.通过制备不同间距的扩散区矩阵测试结构进行测试,可以确定扩散成结的深度和横向扩散宽度、电学串音和光学串音;2.通过分析和对比测试结果,可以为大规模小像元平面型探测器的制备提供合适的扩散间距。
搜索关键词: 测试结构 扩散 光敏区 制备 矩阵 电学串音 对比测试 光学串音 横向扩散 扩散窗口 半绝缘 扩散区 平面型 吸收层 探测器 衬底 帽层 测试 分析
【主权项】:
1.一种用于小间距扩散成结表征的测试结构,包括半绝缘InP衬底(1)、N型InP缓冲层(2)、InGaAs吸收层(3)、N型InP帽层(4)、光敏区(5)、P电极(6)、N电极(7),其特征在于:所述光敏区(5)包括2组3ⅹ2扩散窗口区阵列,扩散窗口的形状为矩形,其中第1组阵列的扩散窗口尺寸为200μmⅹ5um,扩散窗口之间的距离为5μm;第2组阵列的扩散窗口尺寸为200μmⅹ7um,扩散窗口之间的距离为3μm。
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