[实用新型]一种用于小间距扩散成结表征的测试结构有效
申请号: | 201821919497.7 | 申请日: | 2018-11-21 |
公开(公告)号: | CN209150052U | 公开(公告)日: | 2019-07-23 |
发明(设计)人: | 于春蕾;李雪;邵秀梅;龚海梅 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L23/544;G01R31/00;G01Q60/46 |
代理公司: | 上海沪慧律师事务所 31311 | 代理人: | 郭英 |
地址: | 200083 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本专利公开了一种用于小间距扩散成结表征的测试结构,所述结构包括半绝缘InP衬底、N型InP缓冲层、InGaAs吸收层、N型InP帽层、光敏区、P电极、N电极,所述光敏区包括2个不同间距的3ⅹ2扩散窗口区阵列。本专利的优点在于:1.通过制备不同间距的扩散区矩阵测试结构进行测试,可以确定扩散成结的深度和横向扩散宽度、电学串音和光学串音;2.通过分析和对比测试结果,可以为大规模小像元平面型探测器的制备提供合适的扩散间距。 | ||
搜索关键词: | 测试结构 扩散 光敏区 制备 矩阵 电学串音 对比测试 光学串音 横向扩散 扩散窗口 半绝缘 扩散区 平面型 吸收层 探测器 衬底 帽层 测试 分析 | ||
【主权项】:
1.一种用于小间距扩散成结表征的测试结构,包括半绝缘InP衬底(1)、N型InP缓冲层(2)、InGaAs吸收层(3)、N型InP帽层(4)、光敏区(5)、P电极(6)、N电极(7),其特征在于:所述光敏区(5)包括2组3ⅹ2扩散窗口区阵列,扩散窗口的形状为矩形,其中第1组阵列的扩散窗口尺寸为200μmⅹ5um,扩散窗口之间的距离为5μm;第2组阵列的扩散窗口尺寸为200μmⅹ7um,扩散窗口之间的距离为3μm。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造