[实用新型]遮挡装置及离子植入机有效

专利信息
申请号: 201821926309.3 申请日: 2018-11-21
公开(公告)号: CN209298061U 公开(公告)日: 2019-08-23
发明(设计)人: 冯晨萁;洪纪伦;吴宗祐;林宗贤 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317;H01J37/30
代理公司: 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 代理人: 王宏婧
地址: 223300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提供了一种用于晶片的离子植入的遮挡装置及所述离子植入机中,所述遮挡装置包括:档板和机械手,所述挡板与所述机械手相连,所述挡板能够随着所述机械手移动。在晶片植入离子的位置前方增加本实用新型的遮挡装置,当晶片进行最后一次扫描且发生两次瞬间离子束的波动时,机械手带动挡板移动,将挡板的一侧边缘移动到晶片发生两次瞬间离子束的波动位置的中间位置,对晶片一侧进行补植入;然后将挡板的另一侧边缘移动到晶片发生两次瞬间离子束波动的中间位置,再对晶片另一侧进行补植入,避免了离子植入过量的现象。
搜索关键词: 晶片 机械手 挡板 遮挡装置 植入 离子束 离子 本实用新型 离子植入机 一侧边缘 移动 波动位置 挡板移动 一次扫描 植入的 档板 过量
【主权项】:
1.一种遮挡装置,用于晶片的离子植入,其特征在于,所述遮挡装置包括:挡板和机械手,所述挡板与所述机械手相连,所述挡板能够随着所述机械手移动;所述机械手包括一凹槽结构和一手柄,所述凹槽结构包括底板和两个侧板,其中两个所述侧板平行且均与所述底板垂直连接,所述手柄与所述底板连接,两个所述侧板的间距为16mm‑24mm;所述挡板设置于所述凹槽结构内。
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