[实用新型]边缘涂布装置和光刻胶涂布设备有效
申请号: | 201821973491.8 | 申请日: | 2018-11-28 |
公开(公告)号: | CN208953888U | 公开(公告)日: | 2019-06-07 |
发明(设计)人: | 鲁泽;李俊杰;黄志凯;叶日铨 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16 |
代理公司: | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人: | 孙佳胤;董琳 |
地址: | 223300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种边缘涂布装置和光刻胶涂布设备,其中所述边缘涂布装置由于第一喷吐单元和第二喷吐单元驱动单元的控制下能移动到晶圆上方,使得第一喷嘴位于晶圆边缘的第一位置上方,第二喷嘴位于晶圆边缘的第二位置上方,第一喷吐单元和第二喷吐单元控制所述第一喷嘴和第二喷嘴同时向旋转的晶圆的边缘喷吐光刻胶,因而本申请的边缘涂布装置在晶圆边缘涂布光刻胶层时,能在晶圆边缘的两个相对的位置同时喷吐光刻胶,晶圆只需旋转半圈即可使晶圆的边缘全部有光刻胶覆盖,因而在晶圆边缘形成一定厚度的边缘光刻胶层晶圆需要旋转的时间更短,极大的提高了涂布的效率。 | ||
搜索关键词: | 晶圆边缘 晶圆 边缘涂布 喷嘴 光刻胶 光刻胶涂布 单元控制 单元驱动 第二位置 第一位置 光刻胶层 边缘光 刻胶层 半圈 移动 覆盖 申请 | ||
【主权项】:
1.一种边缘涂布装置,其特征在于,包括:吸附单元,所述吸附单元用于吸附晶圆并控制所述晶圆旋转,所述晶圆的边缘包括第一位置和第一位置相对的第二位置;第一喷吐单元,所述第一喷吐单元包括第一喷嘴,所述第一喷吐单元控制第一喷嘴喷吐光刻胶;第二喷吐单元,所述第二喷吐单元包括第二喷嘴,所述第二喷吐单元控制第二喷嘴喷吐光刻胶;驱动单元,在进行边缘涂布时,所述吸附单元控制晶圆旋转,所述驱动单元控制所述第一喷吐单元和第二喷吐单元移动到晶圆上方,使得第一喷嘴位于晶圆边缘的第一位置上方,第二喷嘴位于晶圆边缘的第二位置上方,第一喷吐单元和第二喷吐单元控制所述第一喷嘴和第二喷嘴同时向旋转的晶圆的边缘喷吐光刻胶。
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