[实用新型]MOCVD装置

摘要

本实用新型提供了一种MOCVD装置，包括：壳体；承载组件，承载组件位于壳体内，承载组件包括支撑托盘和承载单元，承载单元用于承载基片，承载单元为多个，多个承载单元相间隔地分布在支撑托盘上；喷淋组件，喷淋组件设置在壳体内并位于承载组件的上方，喷淋组件包括上支撑盖和喷淋单元，喷淋单元用于喷淋混合反应气，喷淋单元为多个，多个喷淋单元相间隔地设置在上支撑盖上并与多个承载单元一一对应设置；各喷淋单元向与其相对应的一个承载单元喷射混合反应气，以使混合反应气在承载单元承载的基片上反应形成化合物薄膜。本实用新型提供的MOCVD装置能够实现高产能、高质量的化学反应，提升化合物薄膜的生产效率，获得高良率的化合物薄膜。

主权项

1.一种MOCVD装置，其特征在于，包括：壳体(10)；承载组件(20)，所述承载组件(20)设置在所述壳体(10)内，所述承载组件(20)包括支撑托盘(21)和承载单元(22)，所述承载单元(22)用于承载基片(100)，所述承载单元(22)为多个，所述多个承载单元(22)相间隔地分布在所述支撑托盘(21)上；喷淋组件(30)，所述喷淋组件(30)设置在所述壳体(10)内并位于所述承载组件(20)的上方，所述喷淋组件(30)包括上支撑盖(31)和喷淋单元(32)，所述喷淋单元(32)用于喷淋混合反应气，所述喷淋单元(32)为多个，所述多个喷淋单元(32)相间隔地设置在所述上支撑盖(31)上并与所述多个承载单元(22)一一对应设置；各所述喷淋单元(32)向与其相对应的一个所述承载单元(22)喷射所述混合反应气，以使所述混合反应气在所述承载单元(22)承载的所述基片(100)上反应形成化合物薄膜。