[实用新型]一种基于表面等离激元非对称激发的纳米位移测量装置有效
申请号: | 201822012776.1 | 申请日: | 2018-12-03 |
公开(公告)号: | CN209310737U | 公开(公告)日: | 2019-08-27 |
发明(设计)人: | 臧天阳;鲁拥华;王沛 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | G01B11/02 | 分类号: | G01B11/02 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人: | 郑立明;赵镇勇 |
地址: | 230026 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种基于表面等离激元非对称激发的纳米位移测量装置,包括依次排列的He‑Ne激光器、(1,0)模厄米高斯光生成装置、聚焦物镜、金属纳米结构、油浸物镜、成像管镜、挡光板、成像透镜、CCD探测器;(1,0)模厄米高斯光生成装置包含一个起偏器、一个S波片和一个检偏器;金属纳米结构包括使用贵金属材料加工出的纳米级厚度薄膜,并在薄膜上加工出纳米精度的凹槽阵列。利用(1,0)模厄米高斯光实现SPPs的不对称激发,测量灵敏度高;于傅里叶面一次成像即可得到位移量,信噪比高,无需追踪扫描和复杂计算,实现信号快速处理和位移的实时反馈。 | ||
搜索关键词: | 厄米 纳米位移测量装置 表面等离激元 金属纳米结构 光生成装置 非对称 高斯 激发 本实用新型 贵金属材料 凹槽阵列 成像透镜 复杂计算 厚度薄膜 聚焦物镜 快速处理 实时反馈 一次成像 依次排列 油浸物镜 激光器 灵敏度 不对称 成像管 挡光板 高斯光 检偏器 纳米级 起偏器 位移量 信噪比 叶面 薄膜 加工 测量 扫描 追踪 | ||
【主权项】:
1.一种基于表面等离激元非对称激发的纳米位移测量装置,其特征在于,包括依次排列的He‑Ne激光器(1)、(1,0)模厄米高斯光生成装置(2)、聚焦物镜(3)、金属纳米结构(4)、油浸物镜(5)、成像管镜(6)、挡光板(7)、成像透镜(8)、CCD探测器(9)。
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