[实用新型]等离子体气相沉积用工件固定治具及等离子体气相沉积设备

摘要

本实用新型揭示了等离子体气相沉积用工件固定治具及等离子体气相沉积设备，其中固定治具包括可绕其轴线自转的圆盘，圆盘上可自转地垂设有一组呈圆形分布的载具，一组载具与圆盘共同形成一占据圆柱形空间的整体装置，整体装置连接电源且整体装置的形状满足其通电后，产生的电磁场集中于整体装置表面区域。本方案通过对整体装置的结构设计，使其通电后的磁场集中分布于圆柱形的整体装置表面区域，从而使得电磁场集中区域与需要镀膜的工件位置相匹配，进而使得等离子体在真正需要的镀膜区域沉积，达到最佳的沉积效果，并且相对于现有设备，在相同时间内产生的厚度能够提高1.3‑2倍，涂层质量等级能提高到最优的1‑2级，产能显著提高。

主权项

1.等离子体气相沉积用工件固定治具，其特征在于：包括可绕其轴线自转的圆盘（1），所述圆盘（1）上可自转地垂设有一组呈圆形分布的载具（2），一组所述载具（2）与所述圆盘（1）共同形成一占据圆柱形空间的整体装置（10），所述整体装置（10）连接电源（3）且所述整体装置的形状满足其通电后，产生的电磁场集中于所述整体装置（10）的表面区域。