[实用新型]改良喷嘴头的沉积系统有效

专利信息
申请号: 201822053069.7 申请日: 2018-12-07
公开(公告)号: CN209428598U 公开(公告)日: 2019-09-24
发明(设计)人: 卢彦勋;施森荣;陈彦良;大藤彻;谢明达 申请(专利权)人: 捷苙科技股份有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/52;C23C16/30
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 董科
地址: 中国台湾苗栗*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 实用新型提供一种改良喷嘴头的沉积系统包括反应腔室、承载部、加热器、气体分配组件、化学物质传递模块、及热交换模块。承载部配置于反应腔室内,具有与反应腔室连接的支撑基座、及用以承载衬底的载盘;加热器配置于载盘下方,用以对衬底加热;气体分配组件配置在相对于承载部上方,包括多個第一喷头主体及多個第二喷头主体,每一第一喷头主体具有延伸穿过第一喷头主体的第一气体通道及喷嘴头,每一第二喷头主体具有延伸穿过第二喷头主体的第二气体通道及喷嘴头;化学物质传递模块与第一气体信道及第二气体信道连接,以将化学物质传递至反应腔室;热交换模块连接至反应腔室的壁及气体分配组件,用于调控反应腔室及气体分配组件的温度。
搜索关键词: 喷头主体 反应腔室 气体分配组件 喷嘴头 化学物质传递 承载 热交换模块 沉积系统 气体通道 气体信道 延伸穿过 载盘 改良 本实用新型 加热器配置 加热器 衬底加热 支撑基座 反应腔 衬底 配置 室内 调控
【主权项】:
1.一种改良喷嘴头的沉积系统,其特征在于,包括:反应腔室;承载部,配置于所述反应腔室内,具有与所述反应腔室连接的支撑基座、及用以承载衬底的载盘;加热器,配置于所述载盘下方,用以对所述衬底加热;气体分配组件,配置在相对于所述承载部上方,包括多个第一喷头主体及多个第二喷头主体,每一所述第一喷头主体具有延伸穿过所述第一喷头主体的第一气体通道及所述喷嘴头,每一所述第二喷头主体具有延伸穿过所述第二喷头主体的第二气体通道及所述喷嘴头;化学物质传递模块,其与所述第一气体通道及所述第二气体通道连接,以将化学物质传递至所述反应腔室;以及热交换模块,连接至所述反应腔室的壁及所述气体分配组件,用于调控所述反应腔室及所述气体分配组件的温度。
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