[实用新型]一种具有双腔体结构的原子层沉积装置

摘要

本实用新型公开了一种具有双腔体结构的原子层沉积装置，包括主机柜，所述主机柜的一侧连接有控制柜，主机柜的上端连接有真空反应腔，主机柜的内部安装有前驱体源输送系统和真空系统，所述真空反应腔包括反应腔外壁和样品进口，反应腔外壁与样品进口相连，反应腔外壁的一侧安装有可视窗口，反应腔外壁的内部连接有真空腔。本具有双腔体结构的原子层沉积装置，加热器置于反应腔与真空腔之间，保证反应腔整体温场的均匀性又避免前驱体源沉积对于加热器工作效率造成影响；反应腔与真空腔之间有氮气保护氛围，且真空腔的压力控制大于反应腔，避免反应腔的前驱体泄漏至真空腔外，同时保证反应腔内洁净的反应环境。

主权项

1.一种具有双腔体结构的原子层沉积装置，包括主机柜(1)，其特征在于：所述主机柜(1)的一侧连接有控制柜(2)，主机柜(1)的上端连接有真空反应腔(3)，主机柜(1)的内部安装有前驱体源输送系统(11)和真空系统(12)，所述真空反应腔(3)包括反应腔外壁(31)和样品进口(32)，反应腔外壁(31)与样品进口(32)相连，反应腔外壁(31)的一侧安装有可视窗口(311)，反应腔外壁(31)的内部连接有真空腔(312)，真空腔(312)内安装有加热器(313)，加热器(313)内安装有反应腔(314)，反应腔(314)的上端连接有前驱体源入口管道(315)，反应腔(314)的下端连接有出气口(316)，反应腔外壁(31)的上端连接有等离子反应腔(34)，反应腔外壁(31)下端的一侧连接有真空腔压力监测接口(38)，真空腔压力监测接口(38)的一侧连接有备用接口(33)，反应腔外壁(31)下端的中间位置连接有前驱体源入口(35)，前驱体源入口(35)的上端与前驱体源入口管道(315)相连，前驱体源入口(35)一侧的反应腔外壁(31)上连接有真空系统接口(36)，真空系统接口(36)的上端与出气口(316)相连，真空系统接口(36)的一侧连接有反应腔压力监测接口(37)，反应腔外壁(31)下端的另一侧连接有惰性气体入口(39)。