[实用新型]一种用于高分子围巾印花设备有效
申请号: | 201822078727.8 | 申请日: | 2018-12-12 |
公开(公告)号: | CN209505194U | 公开(公告)日: | 2019-10-18 |
发明(设计)人: | 俞根华 | 申请(专利权)人: | 杭州耀龙织造有限公司 |
主分类号: | B41F17/00 | 分类号: | B41F17/00;B41F31/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 311100 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于高分子围巾印花设备,包括上盖板和下盖板,所述上盖板和下盖板在水平面上呈镜像设置,所述上盖板和下盖板一侧均设置有凹槽,且凹槽延伸至上盖板或下盖板内腔,所述凹槽内固定设置有海绵吸收垫,所述上盖板和下盖板另一端均设置有放置槽,且放置槽延伸至上盖板或下盖板内腔,所述放置槽上固定设置有印花件。本实用新型通过上盖板和下盖板将围巾固定在放置槽中,而不同形状设置的印花件会从海绵吸收垫中吸收适量的染剂,并且在围巾上进行印花,产生不同的图案,而且本装置几个简单,制造成本低,适合小规模的围巾生产印花所需,并且可以大大提高生产效率。 | ||
搜索关键词: | 下盖板 上盖板 围巾 放置槽 本实用新型 海绵吸收 印花设备 盖板 内腔 凹槽延伸 固定设置 镜像设置 生产效率 形状设置 制造成本 内固定 染剂 图案 延伸 吸收 生产 | ||
【主权项】:
1.一种用于高分子围巾印花设备,包括上盖板(1)和下盖板(2),其特征在于:所述上盖板(1)和下盖板(2)在水平面上呈镜像设置,所述上盖板(1)和下盖板(2)一侧均设置有凹槽(3),且凹槽(3)延伸至上盖板(1)或下盖板(2)内腔,所述凹槽(3)内固定设置有海绵吸收垫(4),所述上盖板(1)和下盖板(2)另一端均设置有放置槽(5),且放置槽(5)延伸至上盖板(1)或下盖板(2)内腔,所述放置槽(5)上固定设置有印花件(6),所述印花件(6)贯穿放置槽(5)一侧壁,且延伸至凹槽(3)内于海绵吸收垫(4)相互贴合,所述放置槽(5)两端固定设置有夹紧板(7)。
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