[实用新型]一种溅射阴极匀气装置有效
申请号: | 201822108005.2 | 申请日: | 2018-12-16 |
公开(公告)号: | CN212404261U | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 舒逸;刘光斗;李赞 | 申请(专利权)人: | 湖南玉丰真空科学技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 411100 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种溅射阴极匀气装置,包括安装在阴极靶门上的溅射阴极以及罩住溅射阴极的阴极挡板,在阴极挡板内侧、溅射阴极的两边沿溅射阴极长度方向,对称设有两段或两段以上的独立且互不连通的匀气管,所述匀气管由匀气外管和匀气内管组成,匀气内管套在匀气外管内,匀气内管与进气管道连接,进气管道穿过阴极靶门并与气体流量控制器连接,在匀气内管壁四周分布有出气孔,在匀气外管上沿长度方向分布有多个出气喷嘴。本实用新型通过在溅射阴极长度方向两边布置匀气管,外部通过单独的气体流量控制器来控制每一段匀气管的气体流量,对溅射阴极上中下各位置进行工艺气体流量补偿,进而来提高或者降低阴极区域等离子体浓度,提高产品的质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 溅射 阴极 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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