[实用新型]光固化型3D打印设备及其图像曝光系统有效
申请号: | 201822116267.3 | 申请日: | 2018-12-17 |
公开(公告)号: | CN209224557U | 公开(公告)日: | 2019-08-09 |
发明(设计)人: | 侯锋 | 申请(专利权)人: | 上海普利生机电科技有限公司 |
主分类号: | B29C64/129 | 分类号: | B29C64/129;B29C64/20;B29C64/264;B33Y10/00;B33Y30/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 骆希聪 |
地址: | 201612 上海市松江区上海市漕河泾*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种光固化型3D打印设备及其图像曝光系统,使用硅基液晶面板作为面阵图像源。所述硅基液晶面板包括镜电极阵列、公共电极、位于所述镜电极阵列和所述公共电极之间的液晶、位于所述镜电极阵列与所述液晶之间的第一配向膜以及位于所述液晶与所述公共电极之间的第二配向膜,所述第一配向膜在对应所述镜电极阵列的每一镜电极处凸起而形成聚焦透镜,每一聚焦透镜能够会聚照射到对应镜电极的光线,从而使得所述镜电极的反射的微光斑尺寸小于所述镜电极所对应的像素尺寸,其中所述硅基液晶面板用于根据控制信号调节所述液晶的状态,从而改变每个经所述镜电极阵列反射的光线的极化方向。 | ||
搜索关键词: | 镜电极 硅基液晶面板 液晶 公共电极 配向膜 打印设备 光固化型 聚焦透镜 图像曝光 控制信号调节 本实用新型 极化方向 面阵图像 阵列反射 微光斑 凸起 像素 反射 照射 会聚 | ||
【主权项】:
1.一种3D打印设备的图像曝光系统,其特征在于包括:硅基液晶面板,包括镜电极阵列、公共电极、位于所述镜电极阵列和所述公共电极之间的液晶、位于所述镜电极阵列与所述液晶之间的第一配向膜以及位于所述液晶与所述公共电极之间的第二配向膜,所述第一配向膜在对应所述镜电极阵列的每一镜电极处凸起而形成聚焦透镜,每一聚焦透镜能够会聚照射到对应镜电极的光线,从而使得所述镜电极的反射的微光斑尺寸小于所述镜电极所对应的像素尺寸,其中所述硅基液晶面板用于根据控制信号调节所述液晶的状态,从而改变每个经所述镜电极阵列反射的光线的极化方向;光源,产生一照射到所述硅基液晶面板上的光线;偏振光分光器,用于将所述光源产生的光线过滤为极化光照射所述硅基液晶面板,并从所述镜电极阵列反射的光线中过滤出预定极化方向的光线;投影镜头,设于所述偏振光分光器的出射方向,使各镜电极所反射的微光斑所组成的微光斑阵列投射到光敏材料表面;微位移驱动机构,连接所述硅基液晶面板,能够驱动所述硅基液晶面板在相互垂直的第一方向和第二方向移动,以微调所述微光斑阵列投影到所述光敏材料表面的位置;以及控制器,命令所述光源进行多次曝光,在每次曝光时命令所述微位移驱动机构进行移动,以将各次曝光的微光斑阵列投影到所述光敏材料表面的不同位置。
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