[实用新型]具有高光利用率的光线投射装置有效

专利信息
申请号: 201822118352.3 申请日: 2018-12-17
公开(公告)号: CN209130767U 公开(公告)日: 2019-07-19
发明(设计)人: 王正 申请(专利权)人: 诚益光电科技股份有限公司
主分类号: F21S41/141 分类号: F21S41/141;F21S41/148;F21S41/30;F21W102/13
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 陈鹏;王博
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 实用新型公开一种具有高光利用率的光线投射装置,其包括一承载单元、一第一光源、一第二光源、一遮光单元以及一透镜,第一光源与第二光源都设置于承载单元上,其中第一光源包括一第一发光单元且第一发光单元具有一第一出光面,第二光源包括一第二发光单元且第二发光单元具有一第二出光面,第一出光面的出光方向与第二出光面的出光方向相反,且第一出光面与第二出光面共平面,遮光单元设置于承载单元的前方,透镜设置于遮光单元的前方。借此,可以在满足小型化要求的前提下提高光利用率。
搜索关键词: 光源 发光单元 出光面 承载单元 遮光单元 光线投射装置 高光 透镜 本实用新型 方向相反 光利用率 透镜设置 共平面
【主权项】:
1.一种具有高光利用率的光线投射装置,其特征在于,所述具有高光利用率的光线投射装置包括:一承载单元;一第一光源,所述第一光源设置于所述承载单元上,且包括至少一个第一发光单元以及一与所述第一发光单元对应设置的第一反射单元,其中所述第一发光单元具有一第一出光面;一第二光源,所述第二光源设置于所述承载单元上,且包括至少一个第二发光单元以及一与所述第二发光单元对应设置的第二反射单元,其中所述第二发光单元具有一第二出光面;一遮光单元,所述遮光单元设置于所述承载单元的前方,用以选择性地遮挡从所述第一光源与所述第二光源出射的光线;以及一透镜,所述透镜设置于所述遮光单元的前方,用以将通过所述遮光单元的光线向外投射,而产生一远光灯或近光灯光型;其中,所述第一出光面的出光方向与所述第二出光面的出光方向相反,且所述第一出光面与所述第二出光面共平面。
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