[实用新型]一种精抛棉有效
| 申请号： | 201822152975.2 | 申请日： | 2018-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN209256649U | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | 卞振伟;方红;刘宜彪 | 申请（专利权）人： | 东莞金太阳研磨股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/11 | 分类号： | B24B37/11;B24D3/00;B24D3/28;B24D11/00;B24D11/02 |
| 代理公司： | 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 | 代理人： | 赵超群 |
| 地址： | 523821 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及磨具技术领域，尤其是指一种精抛棉，其包括依次复合的海绵层、基布层、胶层和研磨层，所述研磨层包括设于胶层上的多个用于研磨抛光的主研磨单元和多个用于协助主研磨单元进行研磨抛光的辅研磨单元，所述主研磨单元呈锥形，所述主研磨单元的尖端设于远离胶层的一侧，所述主研磨单元远离胶层的端部高于所述辅研磨单元远离胶层的端部，具有对产品表面进行研磨抛光处理的功能，且磨料磨损小，研磨抛光效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 主研磨 胶层 研磨单元 研磨抛光 研磨层 精抛 研磨抛光处理 研磨抛光效果 本实用新型 产品表面 磨料磨损 海绵层 基布层 磨具 复合 | ||
【主权项】：
1.一种精抛棉，其特征在于：包括依次复合的海绵层、基布层、胶层和研磨层，所述研磨层包括设于胶层上的多个用于研磨抛光的主研磨单元和多个用于协助主研磨单元进行研磨抛光的辅研磨单元，所述主研磨单元呈锥形，所述主研磨单元的尖端设于远离胶层的一侧，所述主研磨单元远离胶层的端部高于所述辅研磨单元远离胶层的端部。
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