[实用新型]一种分布式布拉格反射镜激光器有效

专利信息
申请号: 201822167001.1 申请日: 2018-12-21
公开(公告)号: CN209389448U 公开(公告)日: 2019-09-13
发明(设计)人: 李全杰;刘向英 申请(专利权)人: 北京一诺东方国际景观工程有限公司
主分类号: H01S5/125 分类号: H01S5/125;H01S5/34
代理公司: 北京艾皮专利代理有限公司 11777 代理人: 李德胜
地址: 100089 北京市海*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及一种分布式布拉格反射镜激光器,该结构自下而上依次包括:衬底层;过渡层;第一分布式布拉格反射镜层;n型Ge半导体层;n型Ge掺杂层;量子阱发光层;电子阻挡层;p型Ge掺杂层;p型Ge半导体层;第二分布式布拉格反射镜层。本实用新型的激光器结构通过将第一分布式布拉格反射镜和第二分布式布拉格反射镜中高折射率材料和低折射率材料设置为渐变折射率材料,通过改变材料的内在结构,调整其有效折射率,可以增加高折射率材料和低折射率材料之间的折射率差异,从而大大提高DBR的性能,降低成本。
搜索关键词: 分布式布拉格反射镜 分布式布拉格反射镜激光器 低折射率材料 高折射率材料 本实用新型 半导体层 电子阻挡层 激光器结构 渐变折射率 有效折射率 折射率差异 改变材料 内在结构 衬底层 发光层 过渡层 量子阱
【主权项】:
1.一种分布式布拉格反射镜激光器,其特征在于,包括:衬底层;过渡层;设置于所述衬底层上,所述过渡层下表面的折射率与所述衬底层的折射率匹配;第一分布式布拉格反射镜层,设置于所述过渡层上;所述第一分布式布拉格反射镜层由高折射率材料层和低折射率材料层交替重复构成,其中,所述高折射率材料层和/或低折射率材料层为渐变折射率材料层;n型Ge半导体层;设置于所述第一分布式布拉格反射镜层上;n型Ge掺杂层,设置于所述n型Ge半导体层上;量子阱发光层,设置于所述n型Ge掺杂层上;电子阻挡层,设置于所述量子阱发光层上;p型Ge掺杂层,设置于所述电子阻挡层上;p型Ge半导体层,设置于所述p型Ge掺杂层上;第二分布式布拉格反射镜层,设置于所述p型Ge半导体层上,所述第二分布式布拉格反射镜层由高折射率材料层和低折射率材料层交替重复构成,其中,所述高折射率材料层和/或低折射率材料层为渐变折射率材料层。
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