[实用新型]一种用于轴类部件抛光的抛光带有效

专利信息
申请号: 201822223762.4 申请日: 2018-12-28
公开(公告)号: CN209754939U 公开(公告)日: 2019-12-10
发明(设计)人: 巴翠兰;陈森军;李冀闽;董景涛;张瑞敏 申请(专利权)人: 绍兴自远磨具有限公司
主分类号: B24D11/00 分类号: B24D11/00;B24D11/02
代理公司: 33216 杭州之江专利事务所(普通合伙) 代理人: 张勋斌
地址: 312300 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型包括一种用于轴类部件抛光的抛光带,包括基材层、涂覆于基材层上的底胶层、粘结于底胶层上的磨料颗粒、以及进一步固定磨料颗粒的复胶层,所述的磨料颗粒的顶部伸出复胶层;所述的磨料颗粒之间留有形成排屑通道的空隙,所述空隙在基材层上的投影面积占整个基材层面积的20%~40%。该抛光带打磨时具有较高的打磨效率,并且能较好地满足光洁度要求,特别适合于曲轴、凸轮轴和齿轮轴等轴类部件的打磨。
搜索关键词: 基材层 磨料颗粒 打磨 底胶层 复胶层 抛光带 凸轮轴 固定磨料颗粒 本实用新型 光洁度要求 曲轴 轴类部件 齿轮轴 抛光 成排 等轴 涂覆 粘结 投影 伸出
【主权项】:
1.一种用于轴类部件抛光的抛光带,其特征在于,包括基材层、涂覆于基材层上的底胶层、粘结于底胶层上的磨料颗粒、以及进一步固定磨料颗粒的复胶层,所述的磨料颗粒的顶部伸出复胶层;/n所述的磨料颗粒之间留有形成排屑通道的空隙,所述空隙在基材层上的投影面积占整个基材层面积的20%~40%;/n所述的磨料颗粒位于底胶层的部分占磨料颗粒高度的1/4~1/3;/n所述磨料颗粒位于复胶层的部分占磨料颗粒高度的1/4~1/3;/n所述的基材层的另一面设有防滑层;/n所述的基材层为PET聚酯薄膜;/n所述的磨料颗粒的粒径为360~2000目,磨料颗粒之间的平均距离为0.5-2.5个磨料体积。/n
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