[实用新型]一种快恢复二极管有效
申请号: | 201822247428.2 | 申请日: | 2018-12-29 |
公开(公告)号: | CN209150121U | 公开(公告)日: | 2019-07-23 |
发明(设计)人: | 张超;欧阳潇 | 申请(专利权)人: | 捷捷半导体有限公司 |
主分类号: | H01L29/861 | 分类号: | H01L29/861;H01L29/06 |
代理公司: | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人: | 卢海洋 |
地址: | 226200 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种快恢复二极管,包括从上至下依次设置的正面阳极、P+浓硼区、N‑淡磷区、N‑‑外延层、N++衬底区、背面阴极,P+浓硼区、N‑淡磷区开有左右对称的台面槽,N‑淡磷区在两侧台面槽之间设有P‑淡硼区,本实用新型在芯片正面形成P+/P‑/N‑的复合结构,形成近似对称的载流子浓度分布,产生阳极发射效率调整的效果,获得更为优化的Trr‑Vf折衷关系,有效的降低了FRED的关断损耗,提升了RRED反向恢复过程中的可靠性与稳定性。 | ||
搜索关键词: | 淡磷 快恢复二极管 本实用新型 阳极 浓硼区 台面槽 载流子 阴极 从上至下 发射效率 反向恢复 复合结构 关断损耗 浓度分布 芯片正面 依次设置 折衷关系 左右对称 衬底区 外延层 淡硼 背面 近似 对称 优化 | ||
【主权项】:
1.一种快恢复二极管,其特征在于:包括从上至下依次设置的正面阳极、P+浓硼区、N‑淡磷区、N‑‑外延层、N++衬底区、背面阴极,所述P+浓硼区、N‑淡磷区开有左右对称的台面槽,所述N‑淡磷区在两侧台面槽之间设有P‑淡硼区。
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