[实用新型]一种适合Micro-Tec印刷的MWT太阳能电池掩膜有效
| 申请号： | 201822248110.6 | 申请日： | 2018-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN209971825U | 公开（公告）日： | 2020-01-21 |
| 发明（设计）人： | 黄智;徐建华;李质磊;路忠林;吴仕梁;盛雯婷;张凤鸣 | 申请（专利权）人： | 江苏日托光伏科技股份有限公司;无锡日托光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | B41F15/36 | 分类号： | B41F15/36;H01L31/18 |
| 代理公司： | 32237 江苏圣典律师事务所 | 代理人： | 贺翔 |
| 地址： | 214028 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种适合Micro‑Tec印刷的MWT太阳能电池掩膜，属于硅太阳能电池工艺技术领域，能够满足Micro‑Tec印刷机的定位要求。本实用新型将图1传统掩膜圈尺寸一致的掩膜圈设计为四个顶点掩膜圈和其余区域掩膜圈尺寸不一致的图形，四个顶点掩膜圈作为定位点，维持掩膜圈大于MWT电池的负极点以满足Micro‑Tec印刷机的定位要求，其余区域掩膜圈尺寸降低，小于MWT电池的负极点，达到降低了掩膜浆料的用量，降低了刻蚀工序去除掩膜浆料所需的化学品用量，节约了整个制程成本。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜 本实用新型 印刷机 极点 浆料 电池 工艺技术领域 硅太阳能电池 化学品用量 太阳能电池 尺寸一致 传统掩膜 刻蚀工序 不一致 定位点 去除 制程 印刷 节约 | ||
【主权项】：
1.一种适合Micro-Tec印刷的MWT太阳能电池掩膜，其特征在于，包括不同尺寸的掩膜圈，四个顶点的掩膜圈和其余区域的掩膜圈尺寸不同，所述四个顶点的掩膜圈作为定位点，所述四个顶点的掩膜圈大于所述MWT电池的负极点。/n
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