[实用新型]MPS二极管器件有效

专利信息
申请号: 201822268708.1 申请日: 2018-12-29
公开(公告)号: CN209766432U 公开(公告)日: 2019-12-10
发明(设计)人: 卓廷厚;李钊君;刘延聪 申请(专利权)人: 厦门芯光润泽科技有限公司
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/06;H01L21/329
代理公司: 35227 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 吴圳添
地址: 361000 福建省厦门市火炬高新区*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 一种MPS二极管器件。所述MPS二极管器件自下而上包括阴极电极、N+碳化硅衬底、N‑外延层和阳极电极;所述N‑外延层具有至少两个P+区;相邻两个所述P+区之间具有N‑补偿掺杂区,所述N‑补偿掺杂区的深度大于所述P+区的深度,所述N‑补偿掺杂区的掺杂浓度高于所述N‑外延层的掺杂浓度;所述阳极电极包括第一金属和第二金属,所述P+区表面与所述第一金属之间为欧姆接触,所述N‑补偿掺杂区表面与所述第二金属之间肖特基为接触。所述MPS二极管能够改善器件导通特性,促使器件的正向压降降低。
搜索关键词: 掺杂区 外延层 金属 二极管器件 阳极电极 掺杂 二极管 导通特性 欧姆接触 阴极电极 正向压降 区表面 碳化硅 肖特基 衬底
【主权项】:
1.一种MPS二极管器件,所述MPS二极管器件自下而上包括阴极电极、N+碳化硅衬底、N-外延层和阳极电极;所述N-外延层具有至少两个P+区;/n其特征在于:/n相邻两个所述P+区之间具有N-补偿掺杂区,所述补偿掺杂区深度大于所述P+区的深度,所述N-补偿掺杂区的掺杂浓度高于所述N-外延层的掺杂浓度;/n所述阳极电极包括第一金属和第二金属,所述P+区表面与所述第一金属之间为欧姆接触,所述N-补偿掺杂区表面与所述第二金属之间为肖特基接触。/n
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