[外观设计]超高精度3D打印系统（nanoArch P140）有效
| 申请号： | 201830222261.7 | 申请日： | 2018-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN304952116S | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 蔡俊林;周建林;郭再勋;贺晓宁;方绚莱 | 申请（专利权）人： | 深圳摩方材料科技有限公司 |
| 主分类号： | 14-02 | 分类号： | 14-02 |
| 代理公司： | 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 | 代理人： | 胡玉 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙华区观*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 1．本外观设计产品的名称：超高精度3D打印系统（nanoArch P140）。2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于超精密光固化3D打印及微纳材料加工制备。3．本外观设计产品的设计要点：产品形状及外观。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：主视图。 | ||
| 搜索关键词： | 外观设计 打印系统 产品形状 微纳材料 超精密 光固化 制备 打印 加工 图片 | ||
【主权项】：
暂无信息
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