[外观设计]定位环(五)有效
申请号: | 201830271161.3 | 申请日: | 2018-06-01 |
公开(公告)号: | CN304865273S | 公开(公告)日: | 2018-10-26 |
发明(设计)人: | 王兵 | 申请(专利权)人: | 重庆臻宝实业有限公司 |
主分类号: | 15-99 | 分类号: | 15-99 |
代理公司: | 重庆为信知识产权代理事务所(普通合伙) 50216 | 代理人: | 张文军 |
地址: | 401326 重庆市九*** | 国省代码: | 重庆;50 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 1.本外观设计产品的名称:定位环(五)。2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品用于半导体晶片蚀刻领域,防止晶片在工作台表面发生偏移,同时均匀分配气体,形成工艺薄膜。3.本外观设计产品的设计要点:在于产品的形状。4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片:立体图。 | ||
搜索关键词: | 外观设计 定位环 蚀刻 半导体晶片 工作台表面 工艺薄膜 均匀分配 偏移 晶片 图片 | ||
【主权项】:
暂无信息
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