[发明专利]用于后处理系统的分解室

摘要

用于后处理系统的分解室包括第一壁；第二壁；和第三壁。第一气室限定在第一壁和第二壁之间，第一气室沿着分解室的纵向轴线定位，第一气室限定第一气室内部容积。第二气室限定在第二壁与第三壁之间，第二气室位置沿着分解室的纵向轴线，使得第二气室围绕第一气室的至少一部分定位。

主权项

1.一种用于后处理系统的分解室，其特征在于，所述的分解室包括：第一壁；第二壁；以及第三壁；其中，在所述第一壁与所述第二壁之间限定第一气室，所述第一气室沿着所述分解室的纵向轴线定位，所述第一气室限定第一气室内部容积，第一入口限定在所述第一壁和第二壁之间的所述第一气室的第一端处，所述第一入口被构造成在垂直于纵向轴线的第一方向上接收排气的排气第一部分，并且第一出口限定在所述第一壁与第二壁之间的所述第一气室与所述第一端相对的第二端上，所述第一出口构造成允许所述排气第一部分以与垂直于所述纵向轴线的所述第一方向相反的第二方向排出；和其中在所述第二壁和所述第三壁之间限定第二气室，所述第二气室沿着所述分解室的纵向轴线定位，使得所述第二气室围绕所述第一气室的至少一部分定位，所述第二气室限定第二气室内部容积以及第二入口限定在第二壁和第三壁之间至第一入口，所述第二入口构造成接收所述排气的排气第二部分，所述排气第二部分流入所述第二气室以便围绕所述第一气室流动并保持流过所述第一气室的所述排气第一部分的温度。