[发明专利]用于减小表面纹理在光学扫描中的影响的方法以及其装置在审

专利信息
申请号: 201880001460.2 申请日: 2018-06-29
公开(公告)号: CN109477711A 公开(公告)日: 2019-03-15
发明(设计)人: C·R·欧利;J·F·蒙罗 申请(专利权)人: 阿德科尔公司
主分类号: G01B11/25 分类号: G01B11/25
代理公司: 深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙) 44240 代理人: 金辉
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 方法、非暂时性计算机可读介质以及内容定制设备,向光学扫描器装置提供指令,所述光学扫描器装置被配置成能够在测试物体的表面上产生定位元素,以按二维扫描图案将所述定位元素扫描到所述测试物体的所述表面上的多个点。沿着所述测试物体的所述表面获得所述多个点中的每一者处的所述定位元素的图像的图像数据。处理所述获得的图像数据以确定所述测试物体的表面轮廓。所述二维扫描图案减少所述表面轮廓中的表面纹理错误。
搜索关键词: 测试物体 定位元素 光学扫描器装置 表面轮廓 表面纹理 二维扫描 图像数据 非暂时性计算机 图案 光学扫描 可读介质 内容定制 减小 扫描 图像 指令 配置
【主权项】:
1.一种用于减小表面纹理在由扫描管理设备实施的对测试物体的表面的光学扫描中的影响的方法,所述方法包括:向光学扫描器装置提供指令,所述光学扫描器装置被配置成能够在所述测试物体的所述表面上产生定位元素,以按二维扫描图案将所述定位元素扫描到所述测试物体的所述表面上的多个点;沿着所述测试物体的所述表面获得所述多个点中的每一者处的所述定位元素的图像的图像数据;以及处理所述获得的图像数据以确定所述测试物体的表面轮廓,其中所述二维扫描图案减少所述表面轮廓中的表面纹路错误。
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