[发明专利]检查装置、检查装置的控制方法、系统、光导及标尺在审

专利信息
申请号: 201880002256.2 申请日: 2018-01-09
公开(公告)号: CN109475352A 公开(公告)日: 2019-03-15
发明(设计)人: 筱崎俊 申请(专利权)人: 德玛医疗株式会社
主分类号: A61B10/00 分类号: A61B10/00;A61B5/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张泽洲;谭祐祥
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种使用来自组织的反射光来检测组织的检查装置、检查装置的控制方法、系统、光导及标尺。本发明的检查装置(100)具备摄影装置(106)、用于相对于摄影装置(106)使其拍摄组织图像的检查模块(115)。检查模块(115)包括用于将来自组织的反射光在摄影装置(106)聚光的对物透镜(104)、环绕对物透镜(104)的光学轴来向组织照射光的多个发光二极管(103a)、具备用于将来自发光二极管(103a)的光直接或作为圆偏振光向组织照射的偏振状态调节部(102a)的圆偏振滤波器(102)、用于将偏振状态调节部(102a)与发光二极管(103a)的位置对准的对准机构(110a)。
搜索关键词: 检查装置 发光二极管 摄影装置 对物透镜 检查模块 偏振状态 反射光 光导 标尺 滤波器 对准机构 位置对准 圆偏振光 组织图像 光学轴 聚光的 圆偏振 照射光 照射 环绕 拍摄 检测
【主权项】:
1.一种检查装置,前述检查装置具备摄影装置和检查模块,前述检查模块用于使前述摄影装置取得组织图像,其特征在于,前述检查模块具备对物透镜、圆偏振滤波器、对准机构、多个发光二极管,前述对物透镜用于将来自组织的反射光在前述摄影装置聚光,前述多个发光二极管环绕前述对物透镜的光学轴,向组织照射光,前述圆偏振滤波器具备偏振状态调节部,前述偏振状态调节部用于将来自前述发光二极管的光直接或作为圆偏振光向组织照射,前述对准机构用于将前述偏振状态调节部对准前述发光二极管的位置。
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