[发明专利]一种相控阵校测的方法以及校测装置有效
| 申请号： | 201880004203.4 | 申请日： | 2018-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN109952513B | 公开（公告）日： | 2020-07-28 |
| 发明（设计）人： | 葛广顶;赵旭波;赵德双 | 申请（专利权）人： | 华为技术有限公司 |
| 主分类号： | G01R29/10 | 分类号： | G01R29/10;G01R29/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518129 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种相控阵校测的方法，该方法应用于校测装置，包含第一相控阵和第二相控阵，第一相控阵包含第一射频RF通道，第二相控阵包含第二RF通道，第一RF通道的拓扑结构与第二RF通道的拓扑结构具有镜像对称关系，第二相控阵的辐射阵面与第一相控阵的辐射阵面间隔亚波长距离，通过第二RF通道接收通过第一RF通道发送的耦合信号；根据耦合信号确定第一RF通道对应的幅度偏差值以及相位偏差值；若满足预设误差校正条件，则对第一RF通道所对应的幅度系数与相位系数进行校正；采用目标幅度系数以及目标相位系数测量第一相控阵的性能指标参数。本申请公开了一种校测装置。本申请可以对待测相控阵的全部RF通道进行快速幅相校正,提升检测效率，减小占地面积，降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 相控阵 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
PCT国内申请，权利要求书已公开。
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